電弧蒸發(fā)鍍膜

在高真空下通過(guò)兩導電材料制成的電極之間產(chǎn)生電弧放電，利用電弧高溫使電極材料蒸發(fā)。電弧源的形式有交流電弧放電、直流電弧放電和電子轟擊電弧放電等形式。

優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高造價(jià)低適用于具有一定導電性的難熔金屬、石墨等

缺點(diǎn)

    會(huì )飛濺出微米級的靶材料顆粒，影響薄膜質(zhì)量

利用高頻電磁場(chǎng)感應加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術(shù)。

PVD鍍鈦通常稱(chēng)謂：鍍鈦，鍍鈦廠(chǎng)，界首鍍鈦加工報價(jià)，鍍膜，真空鍍鈦，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理加工，真空鍍膜加工，家具鍍鈦加工報價(jià)，表面處理，PVD涂層，模具鍍鈦，納米涂層，真空電鍍，零件鍍鈦，精密模具鍍鈦，沖壓模具鍍鈦，真空鍍鈦加工報價(jià)，壓鑄模具鍍鉻，耐磨涂層，真空鍍鈦，金屬表面鍍鈦加工報價(jià)，鍍鈦涂層，離子鍍鈦，真空涂層，沖棒鍍鈦，五金模具鍍鈦，塑膠模鍍鈦，納米鍍鈦，金屬表面處理等.  

金屬表面處理PVD鍍鈦特點(diǎn)：增壽、增硬、增值，并以其硬高度、高耐磨、強抗腐蝕性、抗高溫、抗黏著(zhù)性等優(yōu)越的使用性能廣泛應用于模具工業(yè)中。


PVD (Physical Vapor Deition) 即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜 ，指的就是真空離子鍍膜；通常說(shuō)的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍。真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。


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